純水
半導體、液晶面板超純水
在半導體、液晶面板產品制造過程中，由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，超純水水質是在現有的工業生產中水質要求最高的。
在半導體產品生產中，水中的有機物會降低柵氧化層材料的致密性，溶解氧會氧化硅片表面，顆粒會導致柵氧化膜厚度不均、產品圖形發生缺陷，金屬離子會使產品結晶不良、柵氧化膜的絕緣耐壓機能變壞，細菌的繁殖使它成為有機物和微粒的起源地。在液晶面板生產中，水中的堿金屬會使絕緣膜耐壓不良，重金屬會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素會使P型觸摸屏特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷會使觸摸屏上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒和細菌如吸附在觸摸屏表面，就會引起產品特性變差。
根據半導體及面板行業的生產工藝要求，半導體及面板生產過程的超純水水質必須滿足《ASTM D 5127-07》類型E-1.2中的相關指標。
半導體及面板行業用超純水常用工藝為：
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